11月9日消息，据媒体报道，在第九届中国国际进口博览会上，上海微电子装备集团（SMEE）展示了自主研发的新一代前道干式光刻机SSC800、SSB800模型。
公司披露，目前相关设备关键零部件国产化率已超过90%，多台设备已在国内头部逻辑和存储芯片生产线上稳定运行，累计支持产线流片超过1000万片，设备有效运行率超过92%。
此次展示的设备采用透明剖视设计，可以直观看到内部光学光路和机电系统布局。
与普通设备模型不同，这次展示重点呈现了国产光刻机从光学系统、晶圆传输到精密控制等核心环节的自主化进展。
图源：SMEE
具体来看，SSC800和SSB800采用两种不同的光刻技术路线。其中，SSC800采用KrF（氟化氪）光源，波长为248纳米，主要面向110纳米及以上制程；SSB800采用I-line光源，波长为365纳米，主要面向280纳米及以上制程。
虽然这两款设备并非面向最先进制程，但在功率半导体、模拟芯片、微控制器、存储器等领域，成熟制程仍有大量应用需求。
在核心技术方面，上海微电子表示，设备采用自主研发的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台，以及自动物料传输和高精度对准调平传感系统，关键环节实现了全链条自主可控。
其中，双工件台是提高光刻机生产效率的重要技术。
一个工件台负责晶圆曝光，另一个可以同步进行下一片晶圆的准备工作，减少设备等待时间，提高整体生产效率。
成立于2002年的上海微电子，是国内前道光刻装备研发和制造的重要企业。此次新一代前道干式光刻机平台的展示，也进一步体现了国产光刻设备在成熟制程领域的研发、生产和产线应用进展。
图源：上海微电子装备集团，观察者网、上海证券报
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